GEW estará presente en Graphispag para presentar los últimos lanzamientos de su línea de sistemas de curado UV especializados para las industrias de impresión y conversión. El evento será una oportunidad para mostrar a los profesionales la gama completa de equipos UV para su uso con prensas de impresión y la maquinaria de conversión suministrada por el fabricante británico.

Como experto en la tecnología de curado por UV, GEW se ha convertido en un actor clave en el diseño y fabricación de sistemas UV para líneas de impresión y recubrimiento de bobina de hasta 2,50 m de ancho. GEW mostrará lámparas convencionales de rayos UV de mercurio, LED UV, sistemas UV híbridos, curado UV de gas inerte y fuentes de alimentación híbridas.

En Graphispag se presentará la LA1 de GEW, la lámpara LED UV más potente y completamente refrigerada por aire del mercado. Se ha dado especial consideración al diseño de flujo de aire mejorado para asegurar una disipación de calor eficaz a altos niveles de potencia. La LA1 está construida alrededor del mismo diseño basado en casete probado como el LW1 LED y E2Cmercury arc lampheads y es totalmente compatible con sistemas existentes RHINO sin la necesidad de enfriadores externos, tuberías, refrigerante o mantenimiento adicional mientras disfruta de los beneficios de la eficiencia, seguridad y prolongado ciclo de vida de los LEDs.

La salida del LA1 es tan alta como la de los sistemas refrigerados por agua y sigue siendo adaptable a cualquier sistema GEW E2C. Está diseñado para ofrecer el menor costo, la actualización de menor riesgo a LED disponible en el mercado. Cualquier sistema E2C alimentado por RHINO está inmediatamente disponible para la actualización con sólo un casete de LED requerido.

El curado con gas inerte es una característica importante en la producción de revestimientos de liberación de silicona y otros procesos que requieren polimerización total a velocidades de línea más altas. El proceso de curado inerte tiene lugar bajo condiciones controladas en una cámara sellada y aporta muchos beneficios a la reticulación de recubrimientos de acrílico y silicona tales como velocidades de producción más rápidas, fotoiniciadores no curados reducidos y la capacidad de reducir el peso de tinta o barniz.

La solución de curado inerte de la atmósfera de GEW se puede suministrar como un nuevo sistema completo o como adaptación y viene con un analizador de nivel de oxígeno de precisión incorporado para asegurar la consistencia del proceso y la eficiencia de producción. El panel de control de gas inerte proporciona al operador una retroalimentación visual y le permite simplemente ajustar el nivel de ppm requerido y el control ajusta automáticamente el flujo de gas inerte para que coincida con el nivel de O2 ajustado y optimice el proceso de curado.

Las últimas fuentes de alimentación avanzadas de GEW pueden funcionar con tecnología de curado LED de serie y están listas para extenderse con LED o con arco de mercurio convencional en el futuro, según requieran los cambios en los requisitos del trabajo o en las formulaciones de tinta.

Todos los nuevos sistemas de curado UV con fuente de alimentación RHINO están equipados, de serie, con la instalación de servicio integrado de GEW que permite el monitoreo remoto continuo de la condición de funcionamiento del sistema a través de Internet, permitiendo a los ingenieros de servicio del fabricante detectar y corregir los parámetros de tolerancia. Este tipo de mantenimiento preventivo a distancia garantiza que todo el sistema UV funcione a máximo rendimiento en todo momento, evitando paradas imprevistas de la máquina y desperdicio de recursos.